宿迁铜背板 昆山世高新材料科技有限公司

用人思路：
德才兼备，以德为先；重表现，看发展，凸显“双赢”。

厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
5、镀膜时间，厚度大小。

据立木信息咨询发布的《中国ITO靶材市场研究与投资前景报告（2015版）》显示：ITO（氧化铟锡）靶材是电子信息领域的核心关键材料之一，主要用于制造平板液晶显示器、触摸屏、薄膜晶体管、太阳能电池透明电极以及多功能玻璃等。

厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学性来说，真空镀膜没有任何障碍。
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