真空镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。
锌锡合金,锌铝合金,锡镉合金,铜铟合金,铜铟镓合金,铜镓合金,以及锡,钼,钛等旋转靶材.
内置防真空打弧设计,多层级真空密封,保证长时间连续旋转而不漏气。
制作工艺:真空磁悬浮熔炼, 浇铸成锭,热机械处理和精密机械加工。
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单位注册资金未知。
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