淮安AZO靶厂家 昆山世高新材料科技

AZO靶材的指标
 Density: ≥97%
 Purity: ≥99.95%
Size:280×150 ×Th.mm
Color:Dark-Green
靶材体积电阻率：5×10- 4Ω ·cm

具有沉积速率高、基片沉积温度低、成膜粘附性好、易控制、成本低，能实现大面积制膜的优点，成为当今工业化生产、研究多、成熟、应用广的一项成膜技术，也是AZO薄膜制备中常用的方法。

在高压作用下，电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子，电子飞向基片。

制备AZO薄膜的方法有很多种，主要有磁控溅射法、金属**物化学气相沉积法、脉冲激光沉积法、喷雾热分解法、分子束外延法及溶胶一凝胶法等。其中，磁控溅射法制AZO薄膜具有较高的沉积速率、低的衬底温度和良好的衬底粘附性等优点而被广泛的应用。
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