应用领域:用于化工,,眼镜,电力,电镀,电子,航空航天,,石油等行业。
纯度:≥99.95% 铌靶,状态:退火态(M) 或 硬态(Y)。
方靶材规格:厚度(1-20)x宽度(10-800)x长度(200-1000)mm。
生产工艺:原材料-电子束真空熔炼-锻造-磨光-铌块成品。
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单位注册资金未知。
我公司主要供应靶材,真空镀膜,溅射靶材,金属材料,平面靶材,旋转靶,喷涂靶等,产品销售全国,深受企业用户的信任和**!期待与您的合作!