对于不同的溅射材料和基片, 佳参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否精 确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术,已经比较好的解决了如上所属的问题,但是基本用于实验研究,工业生产上比较常用的体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。
ITO靶材技术一直掌握在日本、韩国等少数企业手中,而中国企业在自主技术的研发上却一直进展缓慢。
据立木信息咨询发布的《中国ITO靶材市场研究与投资前景报告(2015版)》显示:ITO(氧化铟锡)靶材是电子信息领域的核心关键材料之一,主要用于制造平板液晶显示器、触摸屏、薄膜晶体管、太阳能电池透明电极以及多功能玻璃等。
用人思路:
德才兼备,以德为先;重表现,看发展,凸显“双赢”。
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