铌靶材是重要的薄膜技术用材料,铌靶材终制作纯度可**99.95%。
铌溅射靶材在光导纤维,半导体晶片和集成电路中得到了广泛的应用。
纯度:≥99.95% 铌靶,状态:退火态(M) 或 硬态(Y)。
铌是一种闪亮的灰色金属,在室温下暴露在空气中时会呈现蓝色调。
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