南京旋转浇铸靶厂家 昆山世高新材料科技有限公司

磁控溅射旋转靶，属于磁控溅射镀膜技术领域，解决磁控溅射镀制薄膜电池膜层的厚度一致性等技术问题，磁控溅射旋转靶包括靶筒、靶轴、靶材和磁体，靶材装在靶筒的外壁上，磁于靶筒内部，靶筒的两端设有连接构件，连接构件由端头、靶轴支承座和连接夹套组成，端头由连接夹套安装在靶筒的两端，靶轴支承座安装在端头内，靶轴的一端装有磁体移动机构，另一端装有靶材旋转机构。

利用离心力成型管状或空心筒状制品的方法。将定量的液态树脂或树脂分散体放在旋转的（即模具）中，使其绕单轴高速旋转。此时放入的物料即被离心力迫使而分布在模具的近壁部位。在旋转的同时，放入的物料又通过加热等方面而发生熟化，随后视需要经过冷却或不冷却即能取得制品。在成型增强塑料制品时还可同时加入增强性的填料。

积极效果是通过调节靶电源以及旋转靶上的磁铁和靶材之间距离，调整靶材表面的磁场，保证所镀膜层厚度的均匀性和致密度的一致性。

真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统名称。所以对于不同原理的真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。
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