淮安氧化铌靶价格 昆山世高新材料科技有限公司

在储存技术方面，高密度、大容量硬盘的发展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多层复合膜是如今应用广泛的巨磁阻薄膜结构。

铜互连的阻挡层用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等．但是Ta、W都是难熔金属．制作相对困难，如今正在研究钼、铬等的台金作为替代材料。

靶材的结晶粒子直径和均匀性已被认为是影响薄膜沉积率的关键因素。

对靶材厂商而言，这是相当重要的新兴市场。中国靶材产业发展也是与日俱增，不断的扩大自己的规模和生产技术，国内*生产制造靶材的已经达到国外的技术水平。2010年，日本三菱公司就在中国闽台地区建立了光碟埘靶材的生产基地，可以满足闽台50%的靶材需要。
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