ITO靶材就是铟锡氧化物靶材,用于通过磁控溅射工艺,在玻璃基板或**薄膜上镀上一层透明抄、导电薄膜,也就是ITO薄膜。ITO薄膜是目前氧化物薄膜里透光性和导电性的,所以ITO靶材是显示面板必须的上游材料。
国外ITO靶材的生产工艺和技术设备已较为成熟和稳定。其主要制备方法有热等静压法、热压法和烧结法。
ITO靶材的主要分类:溅射靶、蒸镀靶。蒸发靶材:
主要应用于LED芯片及光学镀膜行业。芯片的下游企业就是国内的三安光电、华灿光电等芯片企业(但目前这些企业也有向溅射镀膜靶材转换的趋势),芯片生产好之后在经过封装,做成灯具后就可以工程施工了。至于光学镀膜的下游企业就是一些眼镜玻璃生产企业,特种玻璃镀膜企业等(市场容量相对较小)
ITO生产中需要非常对的大型设备,如冷压机,大型模压机,烧结炉,加工设备及绑定设备。每一项的投入都非常大。
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