宿迁旋转浇铸靶材厂家 昆山世高新材料科技有限公司

磁控溅射旋转靶，属于磁控溅射镀膜技术领域，解决磁控溅射镀制薄膜电池膜层的厚度一致性等技术问题，磁控溅射旋转靶包括靶筒、靶轴、靶材和磁体，靶材装在靶筒的外壁上，磁于靶筒内部，靶筒的两端设有连接构件，连接构件由端头、靶轴支承座和连接夹套组成，端头由连接夹套安装在靶筒的两端，靶轴支承座安装在端头内，靶轴的一端装有磁体移动机构，另一端装有靶材旋转机构。

真空镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

旋转靶材是磁控的靶材。靶材做成圆筒型的，里面装有静止不动的磁体，以慢速转动。

一种聚合物加工工艺。利用圆筒状模具旋转产生的离心力将树脂均匀地喷洒到模具内壁形成制品的方法，也可以在模具内预置编织套、纤维毡，或在树脂中混合短切纤维同时喷洒。
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