真空镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度而拥有统名称。
企业面临的市场竞争日趋激烈,机遇与挑战共存,要想在竞争中求生存求发展,就必须随时更新企业质量管理理念,不断提升科技与质量水平,实践证明,企业靠市场,市场靠产品,产品靠质量,质量管理理念已成为市场竞争的关键,我们只做高品质。
对于不同的溅射材料和基片, 佳参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否精 确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术,已经比较好的解决了如上所属的问题,但是基本用于实验研究,工业生产上比较常用的体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。
晶向均匀性:1、晶格匹配度;2、基片温度;3、蒸发速率。