为避免在溅射过程中因为不洁净的腔体导致短路和起弧,有必要阶段性的除去溅射轨道中间及两侧堆积的溅射物,这也有助于用户可以连续以功率密度进行溅射。
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在离子束溅射石墨靶淀积dlc膜的同时用离子束轰击,对于拓宽和改善DLC膜的性质有重要意义。
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探伤检测: 通过探伤设备检测背靶,确保绑定层均匀,绑定率高。
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用激光拉曼谱和原子力显微镜等现代分析手段研究了磁控溅射石墨靶制备的薄膜的结构和特性。
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