ITO靶材就是氧化铟和氧化锡粉末百按一定比例混合后经过一系列的生产工艺加度工成型,再高温气氛烧结(1600度,通氧气知烧结)形成的黑灰色陶瓷半导体。ito薄膜是利用道ITO靶材作为原材料,通过磁控溅射把ITO靶气化溅版渡到玻璃基板或柔性**薄膜上。ITO薄膜具有权导电性和透光性,厚度一般30纳米--200纳米。
ITO靶材的另一个难点就是烧结工艺,精准的烧结工艺是烧结高品质靶材的关键。
3、配套设备
ITO生产中需要非常对的大型设备,如冷压机,大型模压机,烧结炉,加工设备及绑定设备。每一项的投入都非常大。
ito靶材属于陶瓷靶材的一种,近些年来人们对于电脑、电视、手机显示屏的追求越发明显,由此也带动了ito靶材的市场需求。但目前ito技术发展还不够先进,发展空间巨大。