厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学性来说,真空镀膜没有任何障碍。
目前中国生产的ITO靶材主要供应低端市场;而TFT-LCD、触摸屏用ITO靶材几乎全部从日本、韩国进口。
用人思路:
德才兼备,以德为先;重表现,看发展,凸显“双赢”。
对于不同的溅射材料和基片, 佳参数需要实验确定,是各不相同的,镀膜设备的好坏主要在于能否精 确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术,已经比较好的解决了如上所属的问题,但是基本用于实验研究,工业生产上比较常用的体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。