用途:阳能电池,建筑玻璃,汽车玻璃,半导体,平板电视等。
产品规格:
ID-133/ OD-157x 3191mm;
ID-133/OD-157 X 3855mm.
ID-160/OD-180x1800mm也可以根据客户的具体要求加工。
真空镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。
旋转靶材是磁控的靶材。靶材做成圆筒型的,里面装有静止不动的磁体,以慢速转动。锌锡合金,锌铝合金,锡镉合金,铜铟合金,铜铟镓合金,铜镓合金,以及锡,钼,钛等旋转靶材.
真空镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度而拥有统名称。所以对于不同原理的真空镀膜,影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。