用途:用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD. 光学玻璃、离子镀膜等行业,适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。
生产工艺:原材料-电子束真空熔炼-锻造-磨光-铌块成品。
品名:铌靶 铌板靶,纯度:≥99.95%,密度:≥8.6g/cm3,熔点:2468℃,尺寸范围:根据客户需求定制。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。
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主要经营靶材、真空镀膜、溅射靶材、金属材料、平面靶材、旋转靶、喷涂靶材、铜背板加工、靶材加工、ITO靶材、硅靶材、氧化铌靶材、铜背板、钛背板、不锈钢背板、水路背板、镍铬靶材、镍铜靶、高纯铜、高纯铝、锌铝合金,锌锡靶、纯铟靶、石墨靶、铟锡靶、钛衬管、不锈钢衬管、金靶材、银靶材、钇靶材、铜镓靶、钼靶。
单位注册资金未知。
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