可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且终沉积在基片表面,经历成膜过程,终形成薄膜。溅射镀膜又分为很多种,总体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之。
真空镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度而拥有统名称。
ITO靶材技术一直掌握在日本、韩国等少数企业手中,而中国企业在自主技术的研发上却一直进展缓慢。
据立木信息咨询发布的《中国ITO靶材市场研究与投资前景报告(2015版)》显示:ITO(氧化铟锡)靶材是电子信息领域的核心关键材料之一,主要用于制造平板液晶显示器、触摸屏、薄膜晶体管、太阳能电池透明电极以及多功能玻璃等。
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