品名:铌靶 铌板靶,纯度:≥99.95%,密度:≥8.6g/cm3,熔点:2468℃,尺寸范围:根据客户需求定制。
铌溅射靶材在光导纤维,半导体晶片和集成电路中得到了广泛的应用。
铌靶材作为阴极溅射靶材所形成的氧化膜质度均匀,不与空气中其他物质发生化学反应,保护效果持久。
铌是灰白色金属,熔点2468℃,沸点4742℃,密度8.57克/立方厘米。铌是一种带光泽的灰色金属,具有顺磁性,属于元素周期表上的5族。高纯度铌金属的延展性较高,但会随杂质含量的增加而变硬。它的外电子层排布和其他的5族元素非常不同。同样的现象也出现在前后的钌(44)、铑(45)和钯(46)元素上。
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