金属材料溅射靶材是目前应用广的靶材。本公司提供的金属靶材是通过简单熔炼成形、磁悬浮熔炼、热等静压成型、冷等静压成型等不同工艺制备而成。产品纯度好,密度高,晶粒均匀细致,使用寿命长。
用激光拉曼谱和原子力显微镜等现代分析手段研究了磁控溅射石墨靶制备的薄膜的结构和特性。
简单的说,靶材是高速荷能粒子轰击的目标材料。
在离子束溅射石墨靶淀积dlc膜的同时用离子束轰击,对于拓宽和改善DLC膜的性质有重要意义。
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主要经营靶材、真空镀膜、溅射靶材、金属材料、平面靶材、旋转靶、喷涂靶材、铜背板加工、靶材加工、ITO靶材、硅靶材、氧化铌靶材、铜背板、钛背板、不锈钢背板、水路背板、镍铬靶材、镍铜靶、高纯铜、高纯铝、锌铝合金,锌锡靶、纯铟靶、石墨靶、铟锡靶、钛衬管、不锈钢衬管、金靶材、银靶材、钇靶材、铜镓靶、钼靶。
单位注册资金未知。
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