铌靶材其晶粒尺寸小,再结晶组织和三个轴向的一致性好。
用途:用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD. 光学玻璃、离子镀膜等行业,适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。
铌溅射靶材在光导纤维,半导体晶片和集成电路中得到了广泛的应用。
生产工艺:原材料-电子束真空熔炼-锻造-磨光-铌块成品。
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单位注册资金未知。
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