铌靶材是重要的薄膜技术用材料,铌靶材终制作纯度可**99.95%。
铌溅射靶材在光导纤维,半导体晶片和集成电路中得到了广泛的应用。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行业。
铌是灰白色金属,熔点2468℃,沸点4742℃,密度8.57克/立方厘米。铌是一种带光泽的灰色金属,具有顺磁性,属于元素周期表上的5族。高纯度铌金属的延展性较高,但会随杂质含量的增加而变硬。它的外电子层排布和其他的5族元素非常不同。同样的现象也出现在前后的钌(44)、铑(45)和钯(46)元素上。
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