晶向均匀性:1、晶格匹配度;2、基片温度;3、蒸发速率。
用人思路:
德才兼备,以德为先;重表现,看发展,凸显“双赢”。
厚度均匀性主要取决于:
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率,速率
4、真空度
5、镀膜时间,厚度大小。
目前中国生产的ITO靶材主要供应低端市场;而TFT-LCD、触摸屏用ITO靶材几乎全部从日本、韩国进口。
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主要经营靶材、真空镀膜、溅射靶材、金属材料、平面靶材、旋转靶、喷涂靶材、铜背板加工、靶材加工、ITO靶材、硅靶材、氧化铌靶材、铜背板、钛背板、不锈钢背板、水路背板、镍铬靶材、镍铜靶、高纯铜、高纯铝、锌铝合金,锌锡靶、纯铟靶、石墨靶、铟锡靶、钛衬管、不锈钢衬管、金靶材、银靶材、钇靶材、铜镓靶、钼靶。
单位注册资金未知。
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