化学组分上的均匀性:
就是说在薄膜中,化合物的原子组分会由于尺度过小而很容易的产生不均匀性,SiTiO3薄膜,如果镀膜过程不科学,那么实际表面的组分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,镀的膜并非是想要的膜的化学成分,这也是真空镀膜的技术含量所在。
随着智能手机、平板电脑等移动终端的盛行,到2017年**ITO靶材需求将达到2700吨左右。
厚度上的均匀性,也可以理解为粗糙度,在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位,约为100A),真空镀膜的均匀性已经相当好,可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内,也就是说对于薄膜的光学性来说,真空镀膜没有任何障碍。
真空镀膜过程非常复杂,由于镀膜原理的不同分为很多种类,仅仅因为都需要高真空度而拥有统名称。