被广泛应用到平板显示、太阳能电池、光电器件、防辐射领域等。

在高压作用下,电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞,电离出大量的氩离子和电子,电子飞向基片。

制备AZO薄膜的方法有很多种,主要有磁控溅射法、金属**物化学气相沉积法、脉冲激光沉积法、喷雾热分解法、分子束外延法及溶胶一凝胶法等。其中,磁控溅射法制AZO薄膜具有较高的沉积速率、低的衬底温度和良好的衬底粘附性等优点而被广泛的应用。

磁控溅射技术是20世纪70年始应用于实践的,其制备薄膜的原理:在真空室充入压强0.1-l0 Pa的惰性气体(Ar)的同时,在阴极靶材下面放置了100~1000Gauss强力磁铁。
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